О возможности упрочнения металлических поверхностей на установках для электроискрового легирования типа «Разряд» [Articol]

Гитлевич, Л. Е.; Топала, Павел; Куку, И. И.; Иванов, В. И.; Снегирев, В. А.

Главная
→
FACULTATEA DE ŞTIINŢE REALE, ECONOMICE ŞI ALE MEDIULUI
→
Articole
→
Просмотр элемента

dc.contributor.author	Гитлевич, Л. Е.
dc.contributor.author	Топала, Павел
dc.contributor.author	Куку, И. И.
dc.contributor.author	Иванов, В. И.
dc.contributor.author	Снегирев, В. А.
dc.date.accessioned	2017-05-31T11:20:53Z
dc.date.available	2017-05-31T11:20:53Z
dc.date.issued	1987
dc.identifier.citation	О возможности упрочнения металлических поверхностей на установках для электроискрового легирования типа «Разряд» / Л. Е. Гитлевич, П. А. Топала, И. И. Куку, В. И. Иванов, В. А. Снегирев // Электронная обработка материалов. – 1987. – Nr. 2. – P. 24-27. – ISSN 0013-5739.	ru
dc.identifier.uri	http://dspace.usarb.md:8080/jspui/handle/123456789/3197
dc.description.abstract	Электроискровое легирование (ЭИЛ) на установках типа «Разряд» основано на взаимодействии частиц порошка, подаваемых в межэлектродный промежуток (МЭИ), с каналом импульсного разряда и полярным переносом продуктов взаимодействия на катод-деталь. На таких установках процесс ЭИЛ осуществляется при МЭП, равных 0,5—1,5 мм и более, и напряжениях 50—300 В, для которых данные промежутки больше пробивных. Аналогичные промежутки используются при ЭИЛ с помощью двухкаскадных разрядных систем для обеспечения повышения равномерности и сплошности формируемых поверхностных слоев.	ru
dc.language.iso	ru	ro
dc.publisher	USARB	ro
dc.rights	Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internațional	*
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/	*
dc.subject	электроискровое легирование	ru
dc.subject	межэлектродный промежуток	ru
dc.subject	импульсный разряд	ro
dc.subject	prelucrarea materialelor	ro
dc.title	О возможности упрочнения металлических поверхностей на установках для электроискрового легирования типа «Разряд» [Articol]	ru
dc.type	Article	ro