Аннотации:
Электроискровое легирование (ЭИЛ) на установках типа «Разряд» основано на взаимодействии частиц порошка, подаваемых в межэлектродный промежуток (МЭИ), с каналом импульсного разряда и полярным переносом продуктов взаимодействия на катод-деталь. На таких установках процесс ЭИЛ осуществляется при МЭП, равных 0,5—1,5 мм и более, и напряжениях 50—300 В, для которых данные промежутки больше пробивных. Аналогичные промежутки используются при ЭИЛ с помощью двухкаскадных разрядных систем для обеспечения повышения равномерности и сплошности формируемых поверхностных слоев.