Please use this identifier to cite or link to this item: http://dspace.usarb.md:8080/jspui/handle/123456789/3198
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorГитлевич, А. Е.-
dc.contributor.authorВишневский, А. Н.-
dc.contributor.authorТопала, Павел-
dc.date.accessioned2017-05-31T11:25:20Z-
dc.date.available2017-05-31T11:25:20Z-
dc.date.issued1990-
dc.identifier.citationГитлевич, А. Е. Влияние импульсного магнитного поля на взаимодействие канала разряда с поверхностью электродов / А. Е. Гитлевич, А. Н. Вишневский, П. А. Топала // Электронная обработка материалов. – 1990. – Nr. 3. – P. 24-26. – ISSN 0013-5739.ru
dc.identifier.urihttp://dspace.usarb.md:8080/jspui/handle/123456789/3198-
dc.description.abstractНами было изучено воздействие импульсных разрядов на поверхность электродов в МП соленоида, по которому протекал ток разряда. Исследование проводилось на экспериментальном образце установки типа «Разряд» при системе электродов острие—плоскость и величине МЭП 0,5— 1.5 мм. Напряжение на рабочей емкости Uс изменялось ступенчато и составляло 160, 240, 320, 400 В. Воздействие разрядов на поверхность электродов изучалось как при единичных разрядах, так и режиме непрерывной обработки участка плоского электрода длиной 10—20 мм, путем его перемещения относительно стержневого электрода со скоростью 60 мм/мин. Частота следования импульсов составляла 10—15 Гц.ru
dc.language.isoruro
dc.publisherUSARBro
dc.rightsAttribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internațional*
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/*
dc.subjectимпульсный разрядru
dc.subjectэлектродыru
dc.titleВлияние импульсного магнитного поля на взаимодействие канала разряда с поверхностью электродов [Articol]ru
dc.typeArticlero
Appears in Collections:Articole

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
vlianie_impulisn.pdf1,7 MBAdobe PDFThumbnail
View/Open


This item is licensed under a Creative Commons License Creative Commons