Please use this identifier to cite or link to this item: http://dspace.usarb.md:8080/jspui/handle/123456789/2071
Title: Micro-oxidation of silicon surfaces by means of electrical, discharges in impuls [Articol]
Authors: Topală, Pavel
Melnic, V.
Guzgan, D.
Keywords: descărcare electrică
oxidarea suprafeţelor din siliciu
pelicule de oxizi
electrical discharge
oxidation of silicon surface
oxide films
Issue Date: 2013
Publisher: USARB
Citation: Topală, Pavel. Micro-oxidation of silicon surfaces by means of electrical, discharges in impuls / P. Topală, V. Melnic, D. Guzgan // Fizică şi tehnică : procese, modele, experimente : rev. şt. a profilului de cercetare „Proprietăţile fizice ale substanţelor în diverse stări”. - 2013. - Nr 2. - P. 32-36.
Abstract: Articolul prezintă rezultatele strudiul teoretico-experimental privind formarea peliculelor de oxizi pe suprafeţele din siliciu cu ajutorul oxidării termice rapide în plasma cauzată de descărcările electrice în impuls. Procesul de oxidare a fost obţinut în atmosferă în condiţii normale. Se arată că proprietăţile peliculelor de oxizi depind de puterea disipată pe suprafaţa prelucrată, precum şi de materialul de bază a electrozilor.
The paper presents the results of the theoretical and experimental study of the formation of oxide films on silicon surfaces by means of rapid thermal oxidation in plasma caused by electrical discharges in impulse. The oxidation process has been carried out under normal atmospheric conditions. It has been shown that the properties of the oxide films depend on the processing power as well as the electrode base materials
URI: http://dspace.usarb.md:8080/jspui/handle/123456789/2071
Appears in Collections:Articole

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Topala_fizteh_2013_2-032-036.pdf523,51 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


This item is licensed under a Creative Commons License Creative Commons